Plaque épitaxiale, ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o.

Description de produit:

La plaque épitaxiale est fabriquée en monocristaux au silicium de 100 et 150 mm de diamètre. La plaque épitaxiale est destinée à l’utilisation dans l’industrie de semi-conducteurs. L’épitaxie est un procédé lors duquel l’on applique sur le substrat du silicium monocristallin une autre couche de silicium monocristallin.

Informace:

La plaque épitaxiale nécessite lors de la fabrication une propreté extrême de tout le procédé et une précision élevée. La fabrication des plaques au silicium inclut les opérations chimiques et mécaniques.

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ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o.

Siège de la firme:

ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o.
1. Máje 2230
Rožnov pod Radhoštěm
756 61

République Tchèque

internet:

www.onsemi.cz

Personne à contacter:

Irena Rauchmanová
assistante du directeur général
Tél.: +420 571 753 881

connaissance de langues:
le tchèque, l´anglais
Formulaire de contact >>

Photos

Plaque épitaxiale

Paramètres

Dénomination de produit: Plaque épitaxiale
Volume de production: en vertu de l´entente Volume minimum de livraison: en vertu de l´entente
Prix par pièce: selon la liste des prix courante
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