La plaque épitaxiale est fabriquée en monocristaux au silicium de 100 et 150 mm de diamètre. La plaque épitaxiale est destinée à l’utilisation dans l’industrie de semi-conducteurs. L’épitaxie est un procédé lors duquel l’on applique sur le substrat du silicium monocristallin une autre couche de silicium monocristallin.
La plaque épitaxiale nécessite lors de la fabrication une propreté extrême de tout le procédé et une précision élevée. La fabrication des plaques au silicium inclut les opérations chimiques et mécaniques.
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Irena Rauchmanová
assistante du directeur général
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connaissance de langues:
le tchèque, l´anglais
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Dénomination de produit: Plaque épitaxiale | ||
Volume de production: en vertu de l´entente | Volume minimum de livraison: en vertu de l´entente | |
Prix par pièce: selon la liste des prix courante | ||